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金屬靶材定做前需要了解的產(chǎn)品特性

更新時(shí)間:2024-07-22      點(diǎn)擊次數(shù):593
  金屬靶材是一種在物理氣相沉積(PVD)、化學(xué)氣相沉積(CVD)等薄膜沉積技術(shù)中作為鍍膜材料源的金屬或金屬合金塊。它們通常由單一金屬元素或多種金屬元素按照一定比例合成,有時(shí)也包含非金屬成分,以提供特定的物理、化學(xué)性能,滿足多樣化的應(yīng)用需求。
 

金屬靶材

 

  主要分為以下幾類:
  1、純金屬靶材:由單一金屬元素構(gòu)成,如銅(Cu)、鋁(Al)、金(Au)等,特點(diǎn)是高純度,能夠滿足特定高科技領(lǐng)域的要求。
  2、合金靶材:由兩種或兩種以上的金屬元素合成,例如銅銦鎵硒(CIGS)合金靶材,用于薄膜太陽能電池的生產(chǎn)。
  3、復(fù)合金屬靶材:由金屬與非金屬或多種金屬和非金屬復(fù)合而成,這類靶材在特定功能性薄膜的制備中具有重要應(yīng)用。
 
  金屬靶材的特性:
  金屬靶材的主要特性包括純度、密度、粒度分布等。純度是衡量金屬靶材質(zhì)量的首要標(biāo)準(zhǔn),通常要求99.9%以上,對(duì)于某些高_(dá)端應(yīng)用領(lǐng)域,如半導(dǎo)體制造,甚至需要達(dá)到99.999%的超高純度。高純度能夠確保薄膜的均一性和穩(wěn)定性,減少雜質(zhì)的干擾。靶材的密度應(yīng)盡可能接近理論密度,這有助于提高濺射率和薄膜的均勻性。均勻的粒度分布有助于提高濺射過程的穩(wěn)定性和薄膜的均勻性。
 
  應(yīng)用領(lǐng)域:
  金屬靶材在微電子和半導(dǎo)體制造領(lǐng)域主要用于薄膜沉積技術(shù),包括濺射鍍膜和蒸發(fā)鍍膜,以形成電路板上的導(dǎo)電路徑、電阻層、絕緣層等關(guān)鍵組成部分。在光伏產(chǎn)業(yè)中,金屬靶材用于形成電池的導(dǎo)電層和反射層,這些層對(duì)提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率至關(guān)重要。此外,金屬靶材還被廣泛應(yīng)用于醫(yī)療設(shè)備、航空航天、汽車制造等領(lǐng)域,用于制造各種功能性涂層。

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