薄膜制備全套設(shè)備_第(5)頁-中美合資合肥科晶材料技術(shù)有限公司

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薄膜制備全套設(shè)備

3靶等離子濺射儀火焰輔助噴霧熱分解涂覆設(shè)備超聲波霧化模塊多功能試樣表面處理機(jī) 小型蒸鍍儀高真空蒸發(fā)鍍膜儀小型磁控射頻濺射鍍膜儀射頻等離子磁控濺射鍍膜儀直流等離子磁控濺射鍍膜儀雙靶磁控濺射儀提拉涂膜設(shè)備旋轉(zhuǎn)涂層設(shè)備（勻膠機(jī)）流延涂覆機(jī) 蒸發(fā)鍍膜設(shè)備磁控濺射鍍膜設(shè)備等離子鍍膜設(shè)備熱噴涂鍍膜設(shè)備/靜電紡絲鍍膜設(shè)備濺射源及真空腔體查看全部產(chǎn)品

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火焰輔助噴霧熱分解涂覆設(shè)備--MSK-TH-04FA

MSK-TH-04FA has been developed for research in surface quality improvement of metallic alloys and ceramics. In this technique, solution is sprayed on to a heated substrate through an oxygenacetylene

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更新日期：2024-10-21

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超聲霧化熱解涂覆薄膜設(shè)備-- MSK-SP-04-LD

噴霧熱解制膜法，是將溶液霧化后噴涂到加熱的基底上，然后在基底上得到想得到的物質(zhì)結(jié)構(gòu)。此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物，而且在制備透明電極的應(yīng)用中已有相當(dāng)長的歷史。現(xiàn)在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽能電池中得廣泛用。 MSK-SP-04-LD是一款超聲噴霧熱解設(shè)備，它可以精確控制溶液化學(xué)計(jì)量比、霧粒的噴出速度和霧粒大小等參數(shù)。采用步進(jìn)電機(jī)和微處理器來控制容積泵來精確輸送溶劑。一個(gè)超聲波霧化器

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超聲波霧化模塊（含130W的電源控制器和噴頭）--MSK-SP-01A

超聲波霧化是利用超聲波能量將液體或是膠狀法分散成微米級(jí)的顆粒，其特點(diǎn)為霧粒噴出的初速度較小，且分散的霧粒尺寸較均勻。MSK-SP-01A就是一超聲霧化模塊，含有130W，40KHz的超聲波源，客戶可自行搭建超聲霧化制膜設(shè)備。

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2英寸高真空磁控濺射頭--HVMSS-SPC-2-LD

HVMSS-SPC-2是一款可安裝直徑為2英寸靶材的磁控濺射頭，可適用的靶材種類較廣，如金屬/絕緣靶材或磁性/非磁性靶材。環(huán)形NdFeB永磁體安裝在濺射頭上，以保證濺射鍍膜的效率和均勻性。此款濺射頭可與DC或RF電源配合使用。

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500W直流濺射電源--DC-500-LD

500W直流濺射電源--DC-500-LD

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1英寸高真空磁控濺射頭--HVMSS-SPC-1-LD

HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控濺射頭，可安裝直徑為1英寸的靶材?？膳c直流、脈沖直流和射頻電源相匹配，以至于可以濺射各種靶材（如金屬、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。而且高真空的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，可提高鍍膜質(zhì)量。

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