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當(dāng)前位置：首頁   >  產(chǎn)品中心   >  薄膜制備全套設(shè)備  >  射頻等離子磁控濺射鍍膜儀

  • VTC-5RFI薄膜研究5靶頭等離子射頻磁控濺射儀

    VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀，針對于高通量MGI（材料基因組計(jì)劃）薄膜的研究。特別適合用于探索固態(tài)電解質(zhì)材料，通過5種元素，按16種不同配比組合。

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    產(chǎn)品價(jià)格：面議
    廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
    更新日期：2024-09-06
  • VTC-2RF射頻等離子磁控濺射鍍膜儀

    射頻等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜，它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)幫手。

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    廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
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